Laboratorio de Grafeno y Materiales Bidimensionales - S1

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Laboratorio de Grafeno y Materiales Bidimensionales - S1

Equipamiento:

  • Horno CVD para crecimiento de semiconductores bidimensionales.
  • Grabador para plasma de O2 y RIE.
  • Limpiador de ozono ultravioleta.
  • Incubadora.
  • Horno para recocido de resinas.
  • Congelador.
  • Cabina limpia clase 10.
  • Unidad CNC láser de 300mW 100x100mm.
  • Unidad CNC láser de 500mW 100x100mm.
  • Impresora 3D FDM-FFF para PLA 297x210x200mm.

Tecnologías de laboratorio disponibles:

  • Producción de Grafeno mediante técnicas de Deposición de Vapor en Fase Química.
  • Producción de materiales bidimensionales como h-BN y MoS2 mediante reactores CVD.
  • Producción de Óxido de Grafeno por el método de Hummers.
  • Producción de Óxido de Grafeno reducido fototérmicamente.

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